平成22年5月、当社名古屋工場で高純度硫酸の製造 設備が完成し、7月から生産を開始しています。 　この高純度硫酸は半導体分野で使われる最高品質の 硫酸で、重金属などの不純物の濃度が極めて低いとい う特長があります。 　試運転を重ねた結果、10月には所定の品質を得るこ とができ、顧客評価を受ける段階に入っています。今後 は拡販を進め、高純度無機製品事業の拡大を推進して いきます。 　平成22年12月1日から3日まで、千葉市の幕張メッ セで半導体製造装置に関する世界最大規模の展示会 「SEMICON Japan 2010」が開催されました。今回は 東亞合成の「光硬化型SQシリーズ」、イオン捕捉剤「IXE （イグゼ）」、低熱膨張性フィラー「ウルテアR」、鶴見曹達 の導電性高分子用フォトエッチング用薬剤「クリアイマー ジュR」を出展しました。「SQシリーズ」は光や熱で硬化し、 高硬度、高透明性、高耐熱性等の特長があり、各種ハード コート材料向けに展開中です。「IXE」は無機系のイオン 捕捉剤で、IC封止材やフレキシブルプリント基板用接着 剤に使用されます。また、「ウルテアR」は電子材料用の接 着剤として使用される無鉛系低融点ガラスの熱膨張抑 制剤、「クリアイマージュR」は従来不可能とされていた導 電性高分子へのエッチングを可能とする薬剤です。 　ブースには半導体のほかその周辺業界からの来場者 も多く、半導体分野以外の情報も多数得られました。今 回得られた貴重な情報をビジネスにつなげ、製品の拡 販を目指してまいります。 高純度硫酸製造設備の稼働を開始しました 「SEMICON Japan 2010」に出展 08